中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备

发布日期:2018-11-29 浏览次数:441

中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备

11月29日,由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目在成都通过验收,作为项目重要成果之一,中国科学家研制成功世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备,并形成一条全新的纳米光学光刻工艺路线,具有完全自主知识产权。据介绍,中科院光电所超分辨光刻装备项目组经过近7年艰苦攻关,突破了多项关键技术,完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制,其采用365纳米波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。图为中科院光电所超分辨光刻装备项目副总设计师杨勇(左)介绍装备整机。

 

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