Mercury2000P系列无掩膜光刻机  

 

 

 

      支持:

 

    》第二代无掩膜光刻技术

    》全局对准功能

    》手动对准功能

    》预对准功能

    》对准补偿设定

    》高精度图形套刻匹配

    》全自动聚焦功能

    》灰度补偿功能

    》支持GDSII,CIF,DXF多种格式处理

 

 

  产品介绍: 

 

  芯硕Mercury系列无掩膜直写光刻设备基于先进的第二代光刻直写技术,通过空间光调制器扫描技术实现直写光刻。

    该系列产品主要应用于大规模集成电路150nm工艺节点以上掩膜版制作,亦可用于微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域的直写光刻,在应用中省去了繁琐的掩膜加工步骤,相比单束直写具有效率高、技术先进、应用灵活等特点。该系列产品采用芯硕专利技术的大功率LD(波长405nm)光源,可达0.65um解析度和0.25um的套刻精度。

 

   指标 :

 

  

 

        SEM效果图: